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AC 2000 P4

Prime-Wafer-Doppelseiten-Poliermaschine

Die AC 2000 P4 setzt mit ihren marktführenden Innovationen Standards im Polieren von Silizium-Prime-Wafern. Durch ihren technologischen Vorsprung vereint sie höchsten Durchsatz und optimale Oberflächenqualitäten.​

  • Adaptive Polierspaltregelung für aktiv gesteuerte Arbeitsumgebung ermöglicht höchste Qualitätsergebnisse.
  • Industrieführender Standard im Bereich Präzision, Qualität, Effizienz und Cost of Ownership

Bis zu 300 mm / 12'' Wafer, 15 Wafer / Batch

 

 

Marke: Peter Wolters 

AC 2000 P4 Prime-Wafer-Doppelseiten-Poliermaschine von Lapmaster Wolters

Eigenschaften AC 2000 P4 Poliermaschine

  • Unique and patented UPAC (Upper Platen Adaptive Control) System
  • Unique LPAC (Lower Platen Adaptive Control) System (patent pending)
  • Monitoring of the cooling lubricant flow rate
  • Loop control 
  • First-Class customer support for the highest machine availability and productivity 
  • Integrated high precision interferometric device for in-situ measurement of the wafer thickness 
  • High-Pressure Conditioner
  • Slurry Recycling Station 
  • Slurry Pressure Distribution 
  • Integrated Process Data Recording (DataCare®) 
  • Industry 4.0 
  • Touch Screen

Wir denken weiter. Denn Full-Service fängt mit dem Produkt erst an.

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