AC 2000 P3

Prime-Wafer-Doppelseiten-Poliermaschine

Mit ihrem patentierten UPAC-System ermöglicht die AC 2000 P3 höchste Flexibilität beim Polieren von Silizium-Prime-Wafern. Hierbei kombiniert sie optimierten Durchsatz und Cost of Ownership.

Einzigartiges und patentiertes UPAC-System
Höchster Durchsatz durch doppelseitige Batch-Bearbeitung von bis zu 15 300mm Silizium-Wafern.

Bis zu 300 mm / 12 '' Wafer, 15 Wafer / Batch

Marke: Peter Wolters

AC 2000 P3 Prime-Wafer-Doppelseiten-Poliermaschine von Lapmaster Wolters

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Eigenschaften AC 2000 P3 Poliermaschine

Unique and patented UPAC (Upper Platen Adaptive Control) System
Monitoring of the cooling lubricant flow rate
Loop control

First-Class customer support for the highest machine availability and productivity
Integrated high precision interferometric device for in-situ measurement of the wafer thickness
High-Pressure Conditioner

Slurry Recycling Station
Slurry Pressure Distribution
Integrated Process Data Recording (DataCare®)
Industry 4.0
Touch Screen

Wir denken weiter. Denn Full-Service fängt mit dem Produkt erst an.

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